Голландский производитель полупроводникового оборудования ASML заявил о поставке корпорации Intel первой из своих новых систем литографии в экстремальном ультрафиолете High NA.

Как ожидается, новые машины помогут производителям изготавливать меньшие по размеру и более быстрые полупроводниковые чипы. Стоимость каждой такой системы составляет более $300 млн

ASML опубликовала в социальной сети X (ранее Twitter) изображение одного сегмента машины, отправляющейся из ее штаб-квартиры в Вельдховене, Нидерланды. Оборудование поставляется в защитном контейнере, повязанном красной лентой.

A decade of groundbreaking science and systems engineering deserves a bow! 🎀 We’re excited and proud to ship our first High NA EUV system to @intel. ✈️🌎 pic.twitter.com/wtVn4fmq9D

— ASML (@ASMLcompany) December 21, 2023

Как сообщают осведомленные источники, оборудование отправляется на завод Intel D1X в Орегоне. D1X — это фабрика, где Intel разрабатывает и совершенствует свои будущие производственные технологии. Представители Intel и ASML не прокомментировали предназначение системы.

«Мы рады и гордимся тем, что поставляем нашу первую систему High NA EUV компании Intel», — говорится в заявлении ASML.

ASML является доминирующим производителем на рынке оборудования литографии — машин, которые используют лазеры для создания схем чипов. Машины High NA, которые в собранном виде будут больше грузовика, поставляются в 250 отдельных ящиках, включая 13 больших контейнеров. Ожидается, что они будут использоваться в коммерческом производстве чипов, начиная с 2026 или 2027 года.

Intel заказала первые пилотные машины High NA в 2022 году. Среди других производителей чипов, заказавших эти машины, — TSMC, Samsung, SK Hynix  и Micron.

Источник: reuters