Подвинься, ASML: у Canon появилось литографическое оборудование для выпуска чипов 5 нм уже сейчас, а далее — 2 нм. Получит ли его Китай?
Японская Canon бросает вызов лидеру и нидерландскому производителю литографического оборудования ASML (фактический монополист) – она начала продавать новейшие системы наноструктурной литографии для производства самых современных полупроводников, сообщают CNBC и Bloomberg .
Конец монополии ASML?
Дефицит микросхем, казавшийся наибольшей проблемой пандемического 2020-го, сейчас уже никто не упоминает, но он запустил тектонические сдвиги в полупроводниковой индустрии, только усилившиеся с вторжением в РФ. Сегодня японский технологический гигант Canon, известный в первую очередь камерами и принтерами, выпустил на рынок новую литографическую установку под названием FPA-1200NZ2C. Она позиционируется как более простая и доступная альтернатива наиболее технически прогрессивному оборудованию ASML, на котором производятся самые совершенные на сегодняшний день чипы, например SoC Apple A17 Pro (iPhone 15 Pro и iPhone 15 Pro Max). Напомним, процессоры выпускает TSMC на техпроцессе 3-нм (N3E).
Nanoimprint lithography — более доступная альтернатива фотолитографии.
Новая система Canon использует технологию Nanoimprint lithography (наноструктурной литографии) и способна производить микросхемы, тождественные 5-нм чипам, изготовленным с использованием более прогрессивной технологии литографии в глубоком ультрафиолете (EUV), где как раз доминирует лидер отрасли — уже упомянутая ASML Holding. И Canon рассчитывает в следующем поколении перепрыгнуть до 2 нм. Да, сейчас Canon, как и ее местный соперник Nikon, отстает от ASML в EUV-бегах, но новый подход к наноструктурной литографии — хороший шанс сократить отставание. Кстати, и TSMC, и южнокорейская Samsung – два крупнейших производителя полупроводников – стремятся начать выпуск 2-нм продукции в 2025 году.
Nanoimprint lithography — более доступная альтернатива уже хорошо знакомой и обкатанной фотолитографии. Ранее этот способ активно продвигали производители памяти SK Hynix и Toshiba, а Kioxia (бывшая Toshiba Memory) даже тестировал оборудование Canon на этапе незрелости технологии и высокого уровня брака. Теперь Canon решительно настроена довести дело до конца и доказать, что прошлые проблемы, как низкий процент выхода качественной продукции, уже позади.
В 2014 году Canon купила Molecular Imprints, считающуюся зачинателем Nanoimprint lithography, и с тех пор почти десять лет активно разрабатывала технологию. Прямо сейчас Canon строит первый за два десятилетия новый завод по выпуску литографического оборудования в Уцуномии, севернее Токио. С нового конвейера оборудование начнет сходить в 2025 году.
Новый фронт в торговой войне между США и Китаем
Новое оборудование Canon вполне может запустить новый виток конфликта между США и Китаем, ведь санкции на импорт в Китай оборудования EUV — единственного надежного метода изготовления чипов 5 нм и «тоньше» — никто не отменял. С тех пор как правительство Нидерландов запретило ASML экспортировать литографическое оборудование EUV в Китай, компания не отправила ни одной машины. В то же время технология Canon вообще не привлекает фотолитографию, вместо этого использует давление для создания необходимого «узора» на кремниевой пластине. Нужно ли отдельно рассказывать, насколько важны такие микросхемы для создания, в частности, современной военной техники?
В Canon отказались комментировать, будет ли новое оборудование подпадать под экспортные ограничения Японии, и планирует ли компания поставлять его в Китай.
Недавно Reuters сообщало, что США предупредили Китай о планах обновить правила, определяющие ограничения по поставкам микросхем ИИ и инструментов для производства полупроводников.
